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En la actualidad los protocolos adhesivos más utilizados incluyen Etch and Rinse y Self Etch. Existe evidencia de durabilidad clínica para los dos protocolos pero esto depende en gran medida de marcas especificas.

Para el esmalte, hoy en día, todavía requiere grabado con ácido ortofosfórico y por lo tanto un protocolo etch and rinse para una adhesión duradera.
Algunos monómeros acídicos self etch están diseñados para interaccionar con la Hidroxiapatita(HAp) del tejido, pero su estructura, tamaño y orientación de los cristales provoca una union química insuficiente.

Como regla, la unión micromecánica producida por el protocolo etch and rinse es necesaria y debe ser realizada.

Para dentina, el esquema es distinto, el acido ortofosfórico es menos preferible ya que los adhesivos en general no alcanzan a envolver estrechamente el colágeno expuesto para formar una capa híbrida lo suficientemente resistente a la degradación hidrolítica y enzimática.
El uso de inhibidores de metaloproteinasas(MMP) junto o de forma separada con el imprimante/adhesivo parecen retardar más que prevenir la degradación. Otra estrategia para mejorar la unión a la dentina es la interacción química de monómeros funcionales con la HAp, estos monómeros self etch son clasificados como suaves basado en su ph. Entre estos monómeros encontramos el 10-MDP y más reciente el MF8P. Estudios de análisis estructural de la interfase revelan un ensamblaje en forma de nanocapas que consisten dos moléculas de monómero unidas por la formación de sal estable monómero-Ca. Esta unión se presenta estable y con una mayor resistencia a la degradación.

 

Qué                                                                                                    ¿Porqué?

Grabado selectivo del esmalte por 15 segundos con acido ortofosfórico y luego lavar. El esmalte requiere de microrretención, evitar el grabado dentinario
Frotar un monómero self etch basado en 10-MDP durante 15 segundos mínimo sobre el esmalte grabado y la dentina no grabada. Soplar hasta que la capa de primer no se mueva. El 10-MDP se une ionicamente a la HAp y se auto ensambla en nanocapas
Aplicar adhesivo sin solvente, soplar hasta que no se perciba movimiento del adhesivo.Se debe fotopolimerizar separado de la primera capa de resina compuesta Para sellar y estabilizar la interfase, en caso adhesión indirecta realizar sellado dentinario inmediato (Sesiones múltiples) o soplar firmemente evitando la formación de posas que dificulten la adaptación de la futura restauración

 

Referencias

  1. De Munck J, Van den Steen PE, Mine A, Van Landuyt KL, Poitevin A, Opdenakker G, Van Meerbeek B. Inhibition of enzymatic degradation of adhesive-dentin interfaces. J Dent Res 2009;88:1101-1116.
  2. De Munck J, Van Landuyt K, Peumans M, Poitevin A, Lambrechts P, Braem M, Van Meerbeek B. A critical review of the durability of adhesion to tooth tissue: methods and results. J Dent Res 2005;84:118-132.
  3. Van Meerbeek B, De Munck J, Yoshida Y, Inoue S, Vargas M, Vijay P, Van Landuyt K, Lambrechts P, Vanherle G. Buonocore memorial lecture. Adhesion to enamel and dentin: current status and future challenges. Oper Dent 2003;28:215-235.
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